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チューナブルダイオードレーザー吸収分光法を用いたCEMSアンモニアスリップオンライン監視システム (0-100mg/m3 OEM、応答時間≦120秒)

詳細情報

起源の場所:

南京、中国

証明:

IOS9001, CE

製品名:

NH3用CEMS

範囲:

0-20ppm OEM

表示間違い:

±5%以下

ドリフト:

≤±2.5%F.S

表示エラー:

≤2％

24時間ゼロ・ドリフト:

≤ ±1% FS

24時間スパンドリフト:

≤ ±1.5% FS

パッケージの詳細:

ニュートラルカートン

ハイライト:

製品の説明

CEMSアンモニア漏洩オンライン監視システム

概要

本システムは、石炭火力発電所、アルミニウム工場、製鋼所、製錬所、廃棄物発電所、セメント工場、化学工場、ガラス工場など、様々な産業分野における脱硝プロセスの制御に主に利用されます。

本システムは、チューナブルダイオードレーザー吸収分光法（TDLAS）技術を採用しており、特定のレーザー波長がガス分子によって吸収される特性を分析し、レーザー吸収強度の変化を通じてガス濃度を決定します。

主な特徴

技術パラメータ

パラメータカテゴリ	仕様
動作条件	電源：220VAC、<3kWパージガス：（0.4～0.6）MPA圧縮空気周囲温度：-20℃～55℃
性能指数	光路長：760mm 範囲：0～100 ppmまたはmg/m³（調整可能） T90応答時間：<300 seconds 読み取り誤差：±5%（公称値）以下繰り返し性：±2% F.S以下ドリフト：±2.5% F.S以下
機能パラメータ	デジタル出力：RS485 アナログ出力：4-20 mA 最大負荷500Ω スイッチ出力：負荷容量：AC/DC 24V/1A バックブロー信号、低計器風圧、異常温度アラーム（カスタマイズ可能）サンプルガス温度：<600℃
その他のパラメータ	サンプルガス圧力：±5 KPAの大気圧サンプリング流量：2-3L/min 周囲温度：-10～55℃ 周囲圧力：70～120kPa 外形寸法：950H1160L325W mm 重量：120kg

システム構成

番号	コンポーネント名	モデルと仕様	数量	単位
1	前処理キャビネット	前処理および制御装置	1	セット
1.1	分析キャビネット	950H1160L325W mm	1	セット
1.2	電磁弁	DC24V、ノーマルクローズ	2	セット
1.3	注入ポンプ	8L/min	1	セット
1.4	高温精密フィルター	0.2um	1	セット
1.5	制御回路	自動サンプリング、バックブロー、温度制御を含む	1	セット
1.6	高温遮断弁	BTB-DN10、空気圧バルブ付き	1	セット
2	分析システム	NH3分析計	1	セット
3	加熱式サンプリングプローブ	AG-TT07	1	セット
4	サンプリング加熱トレースパイプライン	60W/m	3	セット
5	スペアパーツ	スペアパーツリストを参照	1	セット