商品の詳細

Created with Pixso. ホーム Created with Pixso. 製品 Created with Pixso.
発電所におけるCEMS
Created with Pixso.

高速応答TDLASガス分析計、チューナブルレーザー吸収分光法、防爆構造Ex d IIC T6、O2 CO NH3 CO2監視用

高速応答TDLASガス分析計、チューナブルレーザー吸収分光法、防爆構造Ex d IIC T6、O2 CO NH3 CO2監視用

ブランド名: JUGE
モデル番号: AG-TDL07
MOQ: 1台
価格: USD2000-10000
支払条件: T/T、オンライン注文
供給能力: 100単位/週
詳細情報
起源の場所:
南京、中国
証明:
IOS9001, CE
製品名:
レーザーガスアナライザー
原理:
波長可変レーザー吸収分光法(TDLAS)
線形エラー:
≤±1%F.S.
スパンの漂流:
≤±1%FS/6ヶ月
再現性:
≤1%FS
防爆グレード:
Ex D Iic T6
ウォーミングアップの時間:
15分以内
パッケージの詳細:
ニュートラルカートン
ハイライト:

DLASレーザープロセスガス分析機

,

NH3プロセスガス分析機

,

CO2 fid 炭化水素分析機

製品の説明
O2 Co Nh3 CO2 ガスのモニタリングと分析のための高速レスポンスのレーザーガス分析機
概要

AG-TDL07レーザーガス分析機は,産業用オンライン分析とオンライン環境モニタリングのために開発されています.半導体レーザー吸収スペクトロスコピー (DLAS) 技術をベースに,高度な統合を伴う統合設計を備えています.

インシチュー探査型,バイパス型,多チャンネル型,ディスク式など様々な構成で利用可能で,この分析器は,O2,CO,NH3,CO2,CH4,H2O,HC,HF,その他対象ガスのマクロ分析とマイクロ分析の濃度測定の両方をサポートします.

特徴
  • DLAS技術を使用して,現場でのオンラインガス分析を行います
  • 圧縮浄化なしのダブルプロフ探査機設計,追加のデータ処理ユニットなし,高い信頼性のあるシンプルなコンパクト構造
  • 繊維結合のない高性能レーザーを使用し,厳しい作業環境 (過剰な塵環境など) に適しています.
  • 特許付きのスポットライト経路調整技術で 簡単に設置できます
メインプロセスライン
Main process line diagram for AG-TDL07 Laser Gas Analyzer system
テクニカルパラメータ
測定原則 調節可能なレーザー吸収スペクトロスコピー (TDLAS)
線形性エラー ≤±1% F.S.
スパン・ドリフト ≤±1% F.S./6ヶ月
繰り返し可能性 ≤1% F.S.
カリブレーション期間 ≤1回/6ヶ月
防爆グレード エクス d IIC T6
保護レベル IP65
温める時間 ≤15分
応答時間 (T90) ≤1s
アナログ出力 2本のワイヤー 4-20mA 信号出力 (孤立,最大負荷 750Ω)
アナログ入力 2方向 4-20mA 入力 (温度圧圧補償)
デジタル出力 RS485/RS232/GPRS/Bluetooth
リレー出力 3本のリレー (24V,1A)
環境温度 -30°Cから+60°C
ガスジェット 0.3-0.8MPa 工業用窒素入口および浄化器具ガスなど
パワー 220VAC,特定の構成に基づく電源
設置方法 吸煙管/煙管に設置された試料採取探査機,近くに設置されたシステム
ガス検出制限
検知ガスの種類 検出制限 検出範囲
O2 0.01% Vol. (0-1) % Vol., (0-100) % Vol.
CO2 10ppm (0-1000) ppm, (0-100) % Vol.
H2S 20ppm (0〜2000) ppm, (0-100) % Vol.
HCl 0.1ppm (0-50) ppm, (0-100) % Vol.
NH3 0.1ppm (0-10) ppm, (0-100) % Vol
C2H2 0.1ppm (0-10) ppm, (0-100) % Vol
CO 10ppm (0-1000) ppm, (0-100) % Vol.
H2O 0.3ppm (0-50) ppm, (0-100) % Vol.
HF 00.02ppm (0−5) ppm, (0-10000) ppm
HCN 0.3ppm (0-30) ppm, (0-1) % Vol.
CH4 0.4ppm (0-40) ppm, (0-100) % Vol.
C2H4 0.6ppm (0−60) ppm, (0-100) % Vol.
注記1: 1mの光路, 1barのガス圧, 300Kのガス温度の試験条件
注記2: 光路を増加させることで,検出限界を比例して低下させる.